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集成电路产业“十一五”专项规划 (1)

发布时间:2008.01.11 06:32     来源:信息产业部网站    作者:信息产业部

集成电路作为信息产业的基础和核心,是国民经济和社会发展的战略性产业,在推动经济发展、社会进步、提高人民生活水平以及保障国家安全等方面发挥着重要作用,已成为当前国际竞争的焦点和衡量一个国家或地区现代化程度以及综合国力的重要标志。
  
  “十一五”期间,大力发展集成电路产业,尽快建立一个自主创新能力不断提高、产业规模不断扩大的产业体系,对于保障信息安全、经济安全、增强国防实力,以及推动社会进步,提高人民生活水平,具有极其重要的战略意义和现实意义。

  按照《国民经济和社会发展第十一个五年规划纲要》中“大力发展集成电路、软件和新型元器件等核心产业”以及《信息产业“十一五”规划》中“完善集成电路产业链”的总体要求,在深入研究、广泛调研的基础上,突出集成电路行业的特点,编制集成电路专项规划,作为集成电路行业发展的指导性文件和加强行业管理的依据。

  一、“十五”回顾

  产业和市场规模迅速扩大。自从18号文件颁布以来,我国集成电路产业进入发展最快的历史阶段。2005年集成电路产量达到266亿块,销售收入由2000年的186亿元提高到2005年的702亿元,年均增长30.4%,占世界集成电路产业中的份额由1.2%提高到4.5%。市场规模迅速扩大,2005年我国集成电路市场规模较2000年翻了两番,达到3800亿元,占全球比重达25%,成为全球仅次于美国的第二大集成电路市场。

  部分关键技术领域取得突破。32位CPU芯片、网络路由交换芯片、GSM/GPRS手机基带芯片、TD-SCDMA基带芯片、数字音视频和多媒体处理芯片、第二代居民身份证芯片等一批中高端产品相继研发成功并投入市场,产品设计能力达到0.18微米,集成度超过千万门;集成电路芯片生产线工艺水平达到12英寸0.13微米,90纳米工艺技术研发取得进展,与国外先进水平之间的差距明显缩小;分辨率193nmArF 准分子激光步进扫描投影光刻机、100nm大角度离子注入机、100nm高密度离子刻蚀机等重大技术装备取得重要突破。

  产业结构日趋合理。我国集成电路产业已初步形成了设计、芯片制造和封装测试三业并举、较为协调的发展格局。经过“十五”的发展,设计业和芯片制造业在产业中的比重显著提高,由2000年的31%提高到2005年的50.9%,封装与测试比重由同期的69%下降到49.1%,较为合理的产业结构初步形成。

  骨干企业成长迅速。2005年销售额过亿元的集成电路设计公司已近20家,一批集成电路设计公司成功上市。上海华虹NEC电子有限公司、中芯国际集成电路制造有限公司等企业的工艺技术水平大幅提高,国际竞争力显著增强,成为全球第七位和第三位芯片加工企业。2005年销售额过10亿元的封装测试企业超过10家,江阴长电科技股份有限公司、南通富士通微电子股份有限公司、天水华天科技股份有限公司等封装测试企业产能不断扩大,技术水平不断提升。

  产业集群效应凸显。集成电路产业集聚效应明显,2005年长江三角洲、京津地区集成电路销售额之和达到644.17亿元,占同年全国总销售额的91.7%。国家(上海)集成电路产业园、国家(苏州)集成电路产业园等5个国家级集成电路产业园区集聚和辐射带动作用日益显现。

  产业环境逐步改善。《鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策》(国发[2000]18号)的颁布实施,集成电路专项研发资金的设立,知识产权保护力度不断加强,为我国集成电路产业提供了良好的政策环境,极大地调动国内外各方面投资集成电路产业的积极性,5年来吸引外资累计约160亿美元。

  尽管“十五”期间成绩显著,但是集成电路产业仍存在诸多问题。产业政策尚未完全落实到位,投融资环境还有待进一步改善;自主创新能力薄弱,缺乏核心技术和自主品牌;产业研发投入严重不足,总体技术水平与国外有很大差距;制造技术以代工为主,缺乏自主品牌;产业规模小,与国内市场规模差距较大;产品结构滞后于市场需求,进出口贸易逆差不断扩大;集成电路专用材料及设备自给率低,集成电路产业链并未完善;集成电路高级专业人才缺乏。

  二、“十一五”面临的形势

  (一)集成电路技术发展趋势

  市场和技术双重驱动创新。第三代移动通信、数字电视、下一代互联网等领域重大技术和市场的快速发展,“三网融合”的不断推进,驱动集成电路产业的技术创新和产品创新。多技术、多应用的融合将催生新的集成电路产品出现,纳米技术的发展、新体系架构等新技术发明也在孕育着新的突破。

  集成电路设计新技术不断涌现。随着90纳米及以下微细加工技术和SoC设计技术的发展,软硬件协同设计、高速、高频、低功耗设计、IP复用、芯片综合/时序分析、可测性/可调试性设计、总线架构、可靠性设计等技术将得到更快的发展和更广泛的应用。

  65~45纳米工艺将实现产业化。“十一五”期间,12英寸、65~45纳米微细加工工艺将实现工业化大生产,铜互联工艺、高K、低K介质材料等将大规模采用;新型栅层材料、下一代光刻技术、光学和后光学掩模版、新型可制造互连结构和材料、光刻胶等工艺、材料将成为技术研发的重点;SOI、SiGe等材料显示出了良好的应用前景。

  适应更高要求的新型封装及测试技术成为主流。集成电路封装正向高密度、高频、大功率、高可靠性、低成本的方向发展。球栅阵列封装(BGA)、芯片倒装焊(Flipchip)、堆叠多芯片技术、系统级封装(SiP)、芯片级封装(CSP)、 多芯片组件(MCM)等封装类型将是“十一五”期间的主流封装形式。随着芯片性能的提高和规模的扩大,测试复杂度不断提高,自动测试技术和测试设备将快速发展,高速器件接口、可靠性筛选方法、高效率和低成本的测试技术等将成为测试的发展重点。

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